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          納米壓印光刻系統
          
            
          簡要描述：納米壓印支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。
          
            
            
    
          • 產品型號：EVG610
            • 
    
          • 廠商性質：代理商
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          • 產品資料：
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          • 更新時間：2024-09-20
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          • 訪  問  量： 6867
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          詳細介紹
          
            
          
            	
          該設備支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。

          EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。

          對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機制。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現高產量的壓印，該卡盤設計既支持軟印章也支持硬印章。

          納米壓印機技術數據：
                      
                      晶圓直徑            （基板尺寸）        
                  
                      標準光刻            碎片蕞大150毫米        
                  
                      柔軟的UV-NIL            蕞大150毫米的碎片        
                  
                      解析度            ≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）        
                  
                      支持流程            柔軟的UV-NIL        
                  
                      曝光源            汞光源或紫外線LED光源        
                  
                      自動分離功能            不支持        
                  
                      工作印章制作            外部        
              
           
          納米壓印機特征：
          1) 頂部和底部對準能力
          2) 高精度對準臺
          3) 自動楔形誤差補償機制
          4) 電動和配方控制的曝光間隙
          5) 支持新的UV-LED技術
          6) 蕞小化系統占地面積和設施要求
          7) 分步流程指導
          8) 遠程技術支持
          9) 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和配方，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
          10) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
          11) 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

          納米壓印機主要應用：
          具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統，支持尺寸從碎片到蕞大150毫米。
          附加功能：
          1) 鍵對準
          2) 紅外對中
          3) 納米壓印光刻
          4) 微接觸印刷
          納米壓印工藝結果：
          圖1  微鏡頭
          圖2  納米壓印結果（100納米分辨率）

           
           
            
          
            
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