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          Thetametrisis膜厚測量儀

          簡要描述:Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

          • 產品型號:FR-pRo
          • 廠商性質:代理商
          • 產品資料:查看pdf文檔
          • 更新時間:2024-08-21
          • 訪  問  量: 11214

          詳細介紹

          膜厚測量儀是一種用于測量薄膜、涂層或其它薄層材料厚度的儀器。膜厚測量儀通常采用不同的工作原理和技術來實現準確的厚度測量,常見的膜厚測量儀包括:
          1、X射線熒光測厚儀:利用X射線照射樣品表面,通過測量熒光光譜來確定薄膜厚度。
          2、聲表面波測量儀:利用超聲波在薄膜表面傳播的特性來測量薄膜厚度。
          3、光學干涉儀:利用光學干涉原理測量薄膜的厚度,常見的有白光干涉儀和激光干涉儀。
          4、磁感應測厚儀:通過測量磁感應信號來確定薄膜或涂層的厚度。
          膜厚測量儀在工業生產、材料研發、電子設備制造等領域廣泛應用,可幫助用戶準確測量和控制薄膜的厚度,確保產品質量和性能。使用膜厚測量儀時,需要根據實際情況選擇適合的儀器和測量方法,并注意儀器的操作規范和安全注意事項。

          Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo概述:

          FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

          FR-pRo膜厚儀是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

          FR-pRo膜厚儀是為客戶量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。

          比如:

          吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環境控制下甚至在液體環境下的表征等等…

          Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo應用:

          1、大學&研究實驗室

          2、半導體行業

          3、高分子聚合物&阻抗表征

          4、電介質特性表征

          5、生物醫學

          6、硬涂層,陽極氧化,金屬零件加工

          7、光學鍍膜

          8、非金屬薄膜等等…

          FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊,核 心部件包括光源,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內的任何光譜系統)和控制單元,電子通訊模塊。

          此外,還有各種各種配件,比如:

          1.用于測量吸收率/透射率和化學濃度的薄膜/試管架;

          2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具;

          3.用于控制溫度或液體環境下測量的加熱裝置或液體試劑盒;

          4.漫反射和全反射積分球。

          通過不同模塊組合,蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。

          Specificatins 規格:

          Model

          UV/Vis

          UV/NIR -EXT

          UV/NIR-HR

          D UV/NIR

          VIS/NIR

          D Vis/NIR

          NIR

          光譜范圍  (nm)

          200 – 850

          200 –1020

          200-1100

          200 – 1700

          370 –1020

          370 – 1700

          900 – 1700

          像素

          3648

          3648

          3648

          3648 & 512

          3648

          3648 & 512

          512

          厚度范圍

          1nm – 80um

          3nm – 80um

          1nm – 120um

          1nm – 250um

          12nm – 100um

          12nm – 250um

          50nm – 250um

          測量n*k 蕞小范圍

          50nm

          50nm

          50nm

          50nm

          100nm

          100nm

          500nm

          準確度*,**

          1nm or 0.2%

          1nm or 0.2%

          1nm or 0.2%

          1nm or 0.2%

          1nm or 0.2%

          2nm or 0.2%

          3nm or 0.4%

          精度*,**

          0.02nm

          0.02nm

          0.02nm

          0.02nm

          0.02nm

          0.02nm

          0.1nm

          穩定性*,**

          0.05nm

          0.05nm

          0.05nm

          0.05nm

          0.05nm

          0.05nm

          0.15nm

          光源

          氘燈 & 鎢鹵素燈(內置)

          鎢鹵素燈(內置)

          光斑 (直徑)

           

           

          350um (更小光斑可根據要求選配)

           

           

          材料數據庫

           

           

           

          > 600 種不同材料

           

           

           

          Accessries 配件:

          電腦

          19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦

          聚焦模塊

          光學聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um

          薄膜/比色皿容器

          在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量

          接觸式探頭

          用于涂層厚度測量和光學測量的配件,適用于彎曲表面和曲面樣品

          顯微鏡

          用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量

          Scanner  (motorized)

          帶有圓晶卡盤的Polar(R-Θ)或 Cartesian(X-Y)自動化樣品臺可選,Polar(R-Θ)樣品臺支持反射率測量,Cartesian(X-Y)樣品臺支持反射率和透射率測量

          積分球

          用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射

          手動 X-Y 樣品臺

          測量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平臺

          加熱模塊

          嵌入FR-tool 中,范圍由室溫~200oC,通過FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度).

          液體模塊

          聚四氟乙烯容器,用于通過石英光學窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具,

          用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中

          流通池

          液體中吸光率、微量熒光測量






          工作原理:

          白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經多層或單層薄膜反射后,經界面干涉產生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學常數。

          * 規格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代 表光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。

           

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