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          EVG620 NT-掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)系統(tǒng)

          簡(jiǎn)要描述:EVG620 NT-掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)系統(tǒng)EVG ® 620 NT提供國(guó)家的本領(lǐng)域掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在小化的占位面積,支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸。

          • 產(chǎn)品型號(hào):Dymek岱美儀器
          • 廠商性質(zhì):代理商
          • 產(chǎn)品資料:查看pdf文檔
          • 更新時(shí)間:2024-10-22
          • 訪  問(wèn)  量: 5045

          詳細(xì)介紹

          一、產(chǎn)品特色

          EVG620 NT-掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)系統(tǒng)|接觸式光刻機(jī)提供國(guó)家的本領(lǐng)域掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在小化的占位面積,支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸。

          二、技術(shù)數(shù)據(jù)

          EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,在小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和優(yōu)化的總體擁有成本,提供了先進(jìn)的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具,可提供半自動(dòng)或自動(dòng)配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn)。擁有操作員友好型軟件,短的掩模和工具更換時(shí)間以及高效的球服務(wù)和支持,使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。

          EVG620 NT或*容納的EVG620 NT Gen2掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)配備了集成的振動(dòng)隔離功能,可在各種應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)出色的曝光效果,例如,對(duì)薄而厚的光刻膠進(jìn)行曝光,對(duì)深腔進(jìn)行構(gòu)圖并形成可比的形貌,以及對(duì)薄而易碎的材料(例如化合物半導(dǎo)體)進(jìn)行加工。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。

          三、EVG620 NT-接觸式光刻機(jī)特征

          1、晶圓/基板尺寸從小到150 mm / 6''

          2、系統(tǒng)設(shè)計(jì)支持光刻工藝的多功能性

          3、易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時(shí)間短

          4、帶有間隔墊片的自動(dòng)無(wú)接觸楔形補(bǔ)償序列

          5、自動(dòng)原點(diǎn)功能,用于對(duì)準(zhǔn)鍵的確居中

          6、具有實(shí)時(shí)偏移校正功能的動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)功能

          7、支持新的UV-LED技術(shù)

          8、返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)

          9、自動(dòng)化系統(tǒng)上的手動(dòng)基板裝載功能

          10、可以從半自動(dòng)版本升級(jí)到全自動(dòng)版本

          11、小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

          12、多用戶概念(無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶界面語(yǔ)言)

          13、先進(jìn)的軟件功能以及研發(fā)與全面生產(chǎn)之間的兼容性

          14、便捷處理和轉(zhuǎn)換重組

          15、遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性


          四、附加功能

          1.鍵對(duì)準(zhǔn)

          2.紅外對(duì)準(zhǔn)

          3.納米壓印光刻(NIL)


          五、EVG620 NT技術(shù)數(shù)據(jù)

          曝1、光源:

          汞光源/紫外線LED光源

          2、先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能:

          手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)/原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證

          3、自動(dòng)對(duì)準(zhǔn):

          動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)/自動(dòng)邊緣對(duì)準(zhǔn)

          對(duì)準(zhǔn)偏移校正算法

          4、EVG620 NT產(chǎn)能:

          全自動(dòng):一批生產(chǎn)量:每小時(shí)180片

          全自動(dòng):吞吐量對(duì)準(zhǔn):每小時(shí)140片晶圓

          晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)150毫米

          5、對(duì)準(zhǔn)方式:

          上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5 µm

          底側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±1,0 µm

          紅外校準(zhǔn):≤±2,0 µm /具體取決于基材

          鍵對(duì)準(zhǔn):≤±2,0 µm

          NIL對(duì)準(zhǔn):≤±3.0 µm

          6、曝光設(shè)定:

          真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

          7、楔形補(bǔ)償:

          全自動(dòng)軟件控制

          8、曝光選項(xiàng):

          間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光


          六、系統(tǒng)控制

          1、操作系統(tǒng):

          Windows

          文件共享和備份解決方案/無(wú)限制 程序和參數(shù)

          2、多語(yǔ)言用戶GUI和支持:

          CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR

          實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),診斷和故障排除

          3、工業(yè)自動(dòng)化功能:

          盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理

          納米壓印光刻技術(shù):SmartNIL




           

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