研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工。$nEVG101光刻膠勻膠機在單室設(shè)計上可以滿足研發(fā)工作，與EVG的自動化系統(tǒng)*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓，可配置為旋涂或噴涂和顯影。

EVG單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機EVG610（單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機 微流控 納米壓印）支持各種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準(zhǔn)方式。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速處理和重新加工，以滿足不斷變化的用戶需求，轉(zhuǎn)換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學(xué)者到專家級各個階層用戶，非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。